摘要：采用超声雾化喷涂技术，以AZ4620光刻胶为研究对象，以硅通孔(TSV)刻蚀后的硅片 为基材，在12英寸(1英寸=2. 54 cm)结构化晶圆表面喷涂光刻胶形成薄膜。分别研究了稀释···